设备巨子ASML的新一代High-NA EUV设备订价约4亿美元(折合27亿人民币)。

  相比之下,上一代EUV光刻机价格大约1.2亿美元,意味着新一代光刻机价格提升了两倍多。不过新一代光刻机设备精密度更高、所运用的零部件更多,机型比上一代大出30%,好像双层巴士巨细。

  据悉,ASML原型机将在2023年上半年完结。现在公司对外表明,2021年第四季度已收到5个预订High-NA EUV的订单。

  至于新一代光刻机的第一批用户是谁也不难猜测,现在台积电、三星是全球仅有的能在先进工艺制程上一较高下的对手。

  依据规划,台积电、三星都计划在本年下半年量产3nm工艺,现在它们所选用的EUV光刻机为第一代,据称第一代EUV光刻机出产3nm已简直到达极限,它们研制更先进的2nm甚至更先进的工艺就需要选用ASML最新的High-NA EUV光刻机。

  跟着订单的增多,接下来几年信任ASML也会很忙。在本年Q1财报会议上,ASML表明,跟着第二季度芯片制作设备的市场需求超越供应量,将上调长时间营收预期,保持本年20%的营收增幅和55台极紫外光科技的产能预期不变,并表明,2025年将能出产70多部极紫外光刻机。

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